Characterization of the radical oxidative level in the degradation of phenolic compounds with H2O2/UV
- Autoría:
- A. de Luis, J. I. Lombraña, A. Menendez
- Año:
- 2008
- Revista:
- Journal of Advanced Oxidation Technologies
- Volumen:
- 11
- Página de inicio - Página de fin:
- 11 - 20